उत्पादने
मल्टी एनर्जी LiBr शोषण चिलर
कार्य तत्त्व
उच्च-तापमान फ्ल्यू गॅस आणि नैसर्गिक वायूचा वापर करून उष्णता स्त्रोत म्हणून, फ्ल्यू गॅस आणि डायरेक्ट फायर्ड LiBr शोषण चिलर (द चिलर/द युनिट), जे कस्टम नॉन-इलेक्ट्रिक चिलर आहे, ते थंडगार पाणी तयार करण्यासाठी रिफायरजेरंट पाण्याच्या बाष्पीभवनाचा वापर करते. .
आपल्या दैनंदिन जीवनात, जसे आपण सर्व जाणतो की, त्वचेवर अल्कोहोल टाकल्यास आपल्याला थंड वाटेल, कारण बाष्पीभवन आपल्या त्वचेतून उष्णता शोषून घेईल.केवळ अल्कोहोलच नाही तर इतर सर्व प्रकारचे द्रव बाष्पीभवन करताना आसपासची उष्णता शोषून घेतील.आणि वातावरणाचा दाब जितका कमी असेल तितके बाष्पीभवन तापमान कमी होईल.उदाहरणार्थ, 1 वातावरणाच्या दाबाखाली पाण्याचे उकळण्याचे तापमान 100 ℃ असते, परंतु वातावरणाचा दाब 0.00891 पर्यंत घसरल्यास, पाण्याचे उकळण्याचे तापमान 5 ℃ पर्यंत खाली येते. म्हणूनच निर्वात स्थितीत, अत्यंत कमी तापमानात पाण्याची वाफ होऊ शकते.
हे मल्टी एनर्जी LiBr शोषण चिलरचे मूलभूत कार्य तत्त्व आहे, जे कस्टम नॉन-इलेक्ट्रिक चिलर आहे.पाणी (शीतक) उच्च-व्हॅक्यूम शोषक मध्ये बाष्पीभवन होते आणि ज्या पाण्याला थंड करायचे आहे त्यातून उष्णता शोषून घेते.रेफ्रिजरंट वाफ नंतर LiBr द्रावण (शोषक) द्वारे शोषली जाते आणि पंपांद्वारे प्रसारित केली जाते.प्रक्रिया पुनरावृत्ती होते.
कूलिंग सायकल
आमच्या सानुकूल नॉन-इलेक्ट्रिक चिलर, मल्टी एनर्जी LiBr शोषण चिलरचे कार्य तत्त्व आकृती 2-1 मध्ये दर्शविले आहे.शोषकातून पातळ केलेले द्रावण, सोल्यूशन पंपद्वारे पंप केले जाते, कमी-तापमान उष्णता एक्सचेंजर (एलटीएचई) आणि उच्च-तापमान उष्णता एक्सचेंजर (एचटीएचई) पास करते, नंतर उच्च-ताप जनरेटर (एचटीजी) मध्ये प्रवेश करते, जेथे ते उकळते. उच्च-तापमान फ्ल्यू गॅस आणि नॅटुरॅक गॅस उच्च-दाब, उच्च-तापमान शीतक वाष्प निर्माण करण्यासाठी.पातळ केलेले द्रावण मध्यवर्ती द्रावणात बदलते.
इंटरमीडिएट सोल्यूशन HTHE द्वारे लो-टेम्प जनरेटर (LTG) मध्ये वाहते, जेथे ते HTG मधून रेफ्रिजरंट वाफ तयार करण्यासाठी गरम केले जाते.मध्यवर्ती समाधान एकाग्र समाधान बनते.
HTG द्वारे निर्माण होणारी उच्च-दाब, उच्च-तापमान शीतक वाफ, LTG मध्ये मध्यवर्ती द्रावण गरम केल्यानंतर, रेफ्रिजरंट पाण्यात घनीभूत होते.पाणी, थ्रॉटल केल्यानंतर, LTG मध्ये तयार होणार्‍या रेफ्रिजरंट वाफेसह, कंडेन्सरमध्ये प्रवेश करते आणि थंड पाण्याने थंड होते आणि शीतक पाण्यात बदलते.
कंडेन्सरमध्ये तयार होणारे रेफ्रिजरंट पाणी यू-पाईपमधून जाते आणि बाष्पीभवनात वाहते.बाष्पीभवकातील अत्यंत कमी दाबामुळे रेफ्रिजरंट पाण्याचा काही भाग बाष्पीभवन होतो, तर त्यातील बहुतांश भाग रेफ्रिजरंट पंपाद्वारे चालविला जातो आणि बाष्पीभवन ट्यूब बंडलवर फवारला जातो.ट्युब बंडलवर फवारलेले रेफ्रिजरंट पाणी नंतर ट्यूब बंडलमध्ये वाहणाऱ्या पाण्यातील उष्णता शोषून घेते आणि त्याची वाफ होते.
LTG मधून एकवटलेले द्रावण LTHE द्वारे शोषक मध्ये वाहते आणि ट्यूब बंडलवर फवारले जाते.नंतर, ट्यूब बंडलमध्ये वाहणाऱ्या पाण्याने थंड केल्यावर, एकवटलेले द्रावण बाष्पीभवनातून शीतक वाष्प शोषून घेते आणि पातळ द्रावण बनते.अशाप्रकारे, बाष्पीभवन प्रक्रिया सतत चालू ठेवून, एकवटलेले द्रावण बाष्पीभवनात निर्माण होणारी रेफ्रिजरंट वाफ सतत शोषून घेते.यादरम्यान, पातळ केलेले द्रावण सोल्यूशन पंपद्वारे एचटीजीमध्ये प्रसारित केले जाते, जेथे ते उकळले जाते आणि पुन्हा केंद्रित केले जाते.अशा प्रकारे कस्टम नॉन-इलेक्ट्रिक चिलरद्वारे कूलिंग सायकल पूर्ण होते जी मल्टी एनर्जी LiBr शोषण चिलर असते आणि सायकलची पुनरावृत्ती होते.
